氧化物壓敏電阻常規(guī)參數(shù)
發(fā)布時(shí)間:2016-10-15 20:49:41
1)壓敏電壓。常稱U1ma值,此參數(shù)與壓敏電阻基片厚度之比稱為電壓梯度(V/mm)。
浪涌保護(hù)器參加測試的氧化物壓敏電阻規(guī)格統(tǒng)一為34mm~34mm/621(截面積電壓比),可是基片厚度從2.8—3.8mm不等,電壓梯度
也從160~210V/mm不等(這里指的是燒成后的電壓梯度,俗稱熟梯)。大量的試驗(yàn)和應(yīng)用已驗(yàn)證電壓梯度不能太高,高了固然會使限制電壓低一點(diǎn),成本低一點(diǎn),但帶來的機(jī)械強(qiáng)度不夠、不耐沖擊,交流
耐受差(熱容量低)等缺點(diǎn),會給使用帶來不安全因素。所以只要限制電壓能滿足技術(shù)要求,其電壓梯度越低越好。按照氧化物壓敏電阻結(jié)構(gòu)和制造丁藝來說,配方確定以后,其微觀結(jié)構(gòu)中的尖晶石表面
能積也就決定了。尖晶石在有效體積內(nèi)數(shù)量越多,形狀越均勻,
浪涌保護(hù)器氧化物壓敏電阻的整體性能表現(xiàn)也就越好,所以在氧化物壓敏電阻的生產(chǎn)過程中,材料的均勻性、顆粒的正態(tài)分布特性決定了氧化物壓敏
電阻的特性,在生產(chǎn)丁藝中氣隙要盡量少,才能燒制出發(fā)育完整成熟的晶體,以使其具有穩(wěn)定的品界層。
按現(xiàn)行MOV的結(jié)構(gòu)形式和限制電壓要求,壓敏電阻基片的電壓梯度(熟梯)在130~
160V/mm是比較合理的,也就是說620V壓敏電阻,其厚度為4mm左右。
2)泄漏電流與壓比。泄漏電流(/n)是在ulma值的75%電壓情況下測得的。各個(gè)廠產(chǎn)品差別較大,從1—20ua都有,該參數(shù)在常規(guī)測試時(shí)只要穩(wěn)定、不漂移就行,重要的是大電流沖擊后變化串不能太大。壓
比是壓敏電壓u),。值與叭、。。值之比。該參數(shù)對MOV制造沒有實(shí)際意義(除特殊用途外)。
常規(guī)測試以上參數(shù),可了解氧化物壓敏電阻在制造過程巾是否做了退火處理。經(jīng)過退火處理的基片/n比未做處理的要大一些,壓比也差一些,但熱穩(wěn)定性及大電流特性卻要好得多。
3)表面銀層。表面銀層,這對MOV制造商似乎不是難題,但如果處理不好,對MOV制造商來說卻會帶來不少麻煩。若銀層太薄,將會導(dǎo)致出現(xiàn)以下現(xiàn)象:在焊接中出現(xiàn)飛銀現(xiàn)象、大電流沖擊時(shí)極易在金屬
片與銀面間產(chǎn)生閃絡(luò)(銀鍋臺金的結(jié)合部位)、大電流溢散密度不夠,銀層附著力不夠、在大電流沖擊時(shí)容易產(chǎn)生揭蓋等。而目前市場上MOV的電極銀面大都不夠理想,不是銀層太薄,就是附著力不好(包
括歐洲產(chǎn)品),而且大多是用分子銀膏制成的,盡管成本低,但在應(yīng)用中其可焊性、大電流溢散性、附著力均不如氧化銀膏制作得好。好的銀層表面應(yīng)該反射出金屑的光澤,且其厚度不低于30rmi,燒銀
溫度大都在600~C之上,附著力>
12N(kg·m/s~)。
4)表面平整度。收集到的各廠商的基片平整度相差甚遠(yuǎn),最好的基片點(diǎn)間差值為o.03一o.04mm,
浪涌保護(hù)器最差的點(diǎn)間差值為o.1mm以上,這樣的基片對MOV制造廠的焊接工藝造成很大困難。因?yàn)闆_壓成形的金屬
片其平整度很好,使得基片與金屬片二者間的結(jié)合完全靠錫去填充。
平整度不好的基片很難保證焊接過程中沒有夾渣或氣隙,在瞬間大電流通過時(shí)產(chǎn)生的沖擊電場力與反作用/J,會因此缺陷而產(chǎn)生損傷,輕者閃絡(luò)、揭蓋,重者爆發(fā)。所以理想的基片應(yīng)該是磨了平面再披
銀面,否則應(yīng)該嚴(yán)格控制基片的燒結(jié)工藝(基片的平整度不好主要是燒成的墊板變形造成的,在燒制中要使其形變越小越好)。從這個(gè)意義上來說,電壓梯度低的產(chǎn)品,也就是厚度厚一些的產(chǎn)品好控制些
。